配备 800万或以上像素的高端手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR Coating 的镀膜, 可以增加透光率和反射红外光. 光线在透过不同介质时会产生折射和反射, 当加上单面 AR Coating 后, 滤光片会提升3~5%的透光率, 让图像更清晰且让滤光片不容易起雾. 上海伯东协助某从事光学玻璃镀膜机生产的客户, 在光学镜头材料蓝玻璃 AR工艺方面实现技术突破!
经过推荐客户采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 在离子清洗, 辅助沉积时, 提高蓝玻璃的薄膜 / 基层物的附着性和硬度, 减少吸收残余气体的污染物和薄膜应力. 上海伯东美国 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在蓝玻璃上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.
应用方向: 离子清洗, 辅助沉积
应用*域: 光学镜头
薄膜工艺: 蓝玻璃镀 AR增透膜
产品类别: 滤光片
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi 射频离子源 RFICP 380
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试


上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅*控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长!  射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数:
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             型号  | 
            
             RFICP 40  | 
            
             RFICP 100  | 
            
             RFICP 140  | 
            
             RFICP 220  | 
            
             RFICP 380  | 
        
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             Discharge 阳*  | 
            
             RF 射频  | 
            
             RF 射频  | 
            
             RF 射频  | 
            
             RF 射频  | 
            
             RF 射频  | 
        
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             离子束流  | 
            
             >100 mA  | 
            
             >350 mA  | 
            
             >600 mA  | 
            
             >800 mA  | 
            
             >1500 mA  | 
        
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             离子动能  | 
            
             100-1200 V  | 
            
             100-1200 V  | 
            
             100-1200 V  | 
            
             100-1200 V  | 
            
             100-1200 V  | 
        
| 
             栅*直径  | 
            
             4 cm Φ  | 
            
             10 cm Φ  | 
            
             14 cm Φ  | 
            
             20 cm Φ  | 
            
             30 cm Φ  | 
        
| 
             离子束  | 
            
             聚焦, 平行, 散射  | 
            
             
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        |||
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             流量  | 
            
             3-10 sccm  | 
            
             5-30 sccm  | 
            
             5-30 sccm  | 
            
             10-40 sccm  | 
            
             15-50 sccm  | 
        
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             通气  | 
            
             Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他  | 
        ||||
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             典型压力  | 
            
             < 0.5m Torr  | 
            
             < 0.5m Torr  | 
            
             < 0.5m Torr  | 
            
             < 0.5m Torr  | 
            
             < 0.5m Torr  | 
        
| 
             长度  | 
            
             12.7 cm  | 
            
             23.5 cm  | 
            
             24.6 cm  | 
            
             30 cm  | 
            
             39 cm  | 
        
| 
             直径  | 
            
             13.5 cm  | 
            
             19.1 cm  | 
            
             24.6 cm  | 
            
             41 cm  | 
            
             59 cm  | 
        
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             中和器  | 
            
             LFN 2000  | 
        ||||
上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD *域.
若您需要进*步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗*生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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