[
采用磁控溅射沉积硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒气体及相应的尾气处理装置, 有利于降低设备成本, 且工艺参数容易控制, 因此经过伯东工程师推荐, 长沙某大学实验室课题租在研究微晶硅薄膜时, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅沉积制备微晶硅薄膜.
KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
|
射频离子源型号 |
RFICP380 |
|
Discharge 阳* |
射频 RFICP |
|
离子束流 |
>1500 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅*直径 |
30 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
15-50 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
39 cm |
|
直径 |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
试验结果:
在实验中, 通过伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅沉积的方法, 可以在玻璃衬底上制备出结晶良好的微晶硅薄膜.
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
若您需要进*步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东: 罗女士 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 108 T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-03-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
上海伯东版权所有, 翻拷必究！