[应用于研究监测土壤的力学结构变化, *般用于山体, 岩石和冻土等环境研究的物理量传感器 MEMS, 这种传感器的制造*般需要经过镀膜, 沉积, 刻蚀等工艺多次循环, 金 Au 和 铂 Pt 是传感器加工中常用的涂层, 在完成镀膜后, 蚀刻是制造微型结构的重要工艺之*, 用传统的刻蚀工艺 ( 湿法刻蚀, ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀) 常常无法有效的刻蚀出所需的图形.
上海伯东日本原装进口离子束刻蚀机 IBE 可以很好的解决传感器 MEMS 的刻蚀难题, 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状, 刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料.
上海伯东离子束刻蚀机物理量传感器 MEMS 刻蚀方案.
刻蚀材料: 4寸 物理量传感器 MEMS (表面镀 金 Au 和 铂 Pt)
刻蚀均匀性要求: ≤±5%
刻蚀难点: Au 和 Pt 反应离子刻蚀 RIE 无法满足要求
刻蚀设备: 10 IBE
因客户信息保密, 10 IBE 部分刻蚀数据结果如下:
离子束刻蚀机 10 IBE 主要技术参数:
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基板尺寸 |
4寸 |
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样品台 |
干式橡胶卡盘+直接冷却（水冷）+0-±90 度旋转 |
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离子源 |
考夫曼源 Well-2100（栅网φ100mm） |
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均匀性 |
≤5%（4寸 Si晶圆） |
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刻蚀速率 |
20nm/min （Si 晶圆） |
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真空度 |
1E-3Pa（45min内） |
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真空系统 |
干泵 + 德国 Pfeiffer 分子泵 |
图片仅供参考
上海伯东日本原装进口离子束刻蚀机推荐应用:
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类别 |
器件 |
刻蚀材料 |
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磁性器件 |
自旋电子: MR / AMR / GMR / TMR, MRAM, HDD |
Ni-Fe, Ni-Co, TiO2, BST, Co-Fe, Ta, Cu, Ni-Mo, SiO2 等等… |
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传感器 MEMS |
铂热电阻, 流量计, 红外传感器, 压电打印机头等 |
PT, PZT, Au, Pt, W, Ta (electrode) 等等… |
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RF 射频器件 |
射频滤波器, GaAs / GaN HEMT 等 |
Au, Pt, Ti, Ru, Cr, LN (LiNbO3) 等 |
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光电子 |
激光二*管, 光电探测器, 薄膜分装等 |
Au, Pt, Ti, TaN, GaN 等 |
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其他 |
探针卡, 薄膜片式电阻器, 氧化物, 超导等 |
NiCr, Cr, Cu, Pd, Ir, LuFe2O4, SrTiO4, MgOHfO2 等 |
上海伯东日本原装设计制造离子刻蚀机 IBE, 提供微米*刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRi 考夫曼离子源!
伯东公司超过 50年的刻蚀 IBE 市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!若您需要进*步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
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